Procédés et élaboration des caractérisations des couches minces

Formation

À Paris Cédex 03

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Description

  • Typologie

    Formation

  • Lieu

    Paris cédex 03

Responsable(s) Isabelle MABILLE, Maître de Conférences à Chimie Paristech.
Publics et conditions d'accès Techniciens, ingénieurs ou chercheurs.
Objectifs
Utiliser les différentes techniques d’élaboration des couches minces.

Les sites et dates disponibles

Lieu

Date de début

Paris Cédex 03 ((75) Paris)
Voir plan
292 Rue Saint-Martin, 75141

Date de début

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Les Avis

Le programme

Programme Préparation de surface, un exemple particulier : les supports souples.
Evaporation de films minces : principe, configurations géométriques source échantillon, application au milieu industriel (cours et TP)
Pulvérisation cathodique : principe des différentes variantes (diode, triode, magnétron, RF et continu), pulvérisation réactive, configuration géométrique, exemples dans le milieu industriel (cours et TP).
Dépôt chimique en phase vapeur (CVD) : principe de la technique, les différentes variantes, applications dans le milieu industriel (cours etTP).
Contraintes mécaniques et adhérence de film sur une surface : définition des paramètres mécaniques des films, influence du mode de croissance sur la contrainte et l'adhérence, description des outils de diagnostics.
Fonctionnalisation des surfaces par plasma - Traitement de surface - Greffage - Ablation - Hydrophilie - Hydrophobie - Adhésion - Vieillissement.
Dépôt couche mince - Dépôt basse pression - Dépôt pression atmosphérique - Hydrophilie - Couches barrière - Couches hydrophobes - Couches minces pour l'optique. (Cours et TP)


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