Initiation aux micro et nanotechnologies, à la microscopie à force atomique et à la lithographie électronique

Théorie :
- Présentation succincte des infrastructures types salle blanche.
- Présentation des outils classiques utilisés en micro et nanotechnologie :

• le dépôt de couches minces (PECVD, évaporation sous vide....),
• la lithographie optique de résines photosensibles simple et double face,
• la gravure sèche par plasma (RIE, RIE profonde du silicium),
• l'oxydation thermique du silicium.

Pratique :

- Réalisation de structures nanométriques par lithographie électronique haute résolution dont les grands principes de fonctionnement seront détaillés.
- Observation de ces structures en microscopie électronique à balayage haute résolution en utilisant un microscope à effet de champ.
- Réalisation en salle blanche des sondes type AFM (microscope à force atomique) en silicium (bras de levier munis de pointe),
- Utilisation de ces sondes afin d'obtenir des images haute résolution des structures nanométriques réalisées en lithographie électronique.

Les meilleures sondes AFM fabriquées en salle blanche seront choisies par observation MEB, puis l'une d'entre elles sera mise en place sur un microscope type AFM. Le principe de fonctionnement d'un tel microscope sera détaillé. Il servira à imager les structures nanométriques réalisées en lithographie électronique.

Les deux types de caractérisation dimensionnelle et structurale à l'échelle nanométrique que sont la microscopie électronique à balayage haute résolution et la microscopie en champ proche à force atomique seront comparées et évaluées.

Ce stage dense, relativement complet, est accessible à tous et privilégie un temps important consacré aux activités de salle blanche.

Intervenants

- B. Belier - IEF Orsay,
- D. Bouville - IEF Orsay.