Pvd - Magnétron - Evaporation - Mbe

Formation

À Vandoeuvre les Nancy

950 € HT

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Description

  • Typologie

    Formation

  • Dirigé à

    Pour professionnels

  • Lieu

    Vandoeuvre les nancy

  • Heures de classe

    18h

Cette formation donne les bases indispensables à une bonne compréhension des différents processus conduisant à la formation de films minces et vise à donner l'essentiel des connaissances nécessaires à la mise en oeuvre des différents procédés de dépôts physique. Destinataires: Ce stage de deux jours et demi s'adresse aux techniciens et ingénieurs du milieu industriel et académique qui ont à mettre en oeuvre des procédés de dépôt sous vide. Niveaux I. II. III

Précisions importantes

Modalité Formation continue

Les sites et dates disponibles

Lieu

Date de début

Vandoeuvre les Nancy ((54) Meurthe-et-Moselle)
Université de Nancy I, 54506

Date de début

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Questions / Réponses

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Les Avis

Le programme

Cours théoriques : 1,5 jours

  • Les processus physiques, thermiques, sputtering, différents types de dépôts (corps simples et dépôts réactifs), scénario de croissance : de l'adsorption à la formation du film.
  • Evaporation thermique, bombardement électronique.
  • Procédés assistés par plasma.
  • PVD (incluant PVD simple, réactive, magnétron).
  • Procédés assistés faisceaux d'ions.
  • IBAD, Ion Plating.
  • PLD.
  • Epitaxie par jet moléculaire.

    Travaux pratiques : 1 jour

  • Réalisation de dépôt par évaporation.
  • PVD magnétron réactive en salle blanche.
  • Epitaxie par jet moléculaire.

    Nombre de participants limité (manip. en salle blanche).
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