La lithographie optique et électronique

Ce stage de deux jours et demi s'adresse aux techniciens et ingénieurs du milieu industriel et académique qui sont amenés à développer des procédés de lithographies optique et électronique. Cette formation comporte des cours théoriques et des travaux pratiques mettant en œuvre des procédés de lithographie optique et électronique pour la réalisation de micro et nano-objets. Elle donne les bases théoriques et expérimentales indispensables à la mise en œuvre de ce genre de procédés dans un environnement salle blanche. Elle abordera aussi les aspects de dépôt par évaporation spécifique à la lithographie électronique.

Cours :

• lithographie optique : principe, configurations, procédé, applications
• lithographie électronique : principe, procédé, applications
• nano-impression : principe, configurations, applications
• FIP (Focused Ions Beam) : principe, applications

Travaux pratiques :

• TP de lithographie optique : spin coating, lithographie, dépôt, gravure, lift-off
• TP de lithographie électronique : dessins des masques, écriture par faisceau d'électrons, dépôt par évaporation, lift-off, caractérisation