Objectifs: Comprendre les mécanismes de croissance et les phénomènes physiques associés à l'élaboration des films minces. Destinataires: Niveaux I. II. III
Précisions importantes
ModalitéFormation continue
Les sites et dates disponibles
Lieu
Date de début
Paris
((75) Paris)
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19 Rue du Renard, 75004
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Le programme
Présentation comparative des différentes techniques de croissance sous vide de films minces (pulvérisation, évaporation, CVD)
Rappel concernant la théorie cinétique des gaz : notion de pression, distribution de type Maxwell-Boltzmann, libre parcours moyen, flux de particules sur une surface.
Intéraction ions-surface : ralentissement des ions dans un solide, cascade de collisions, collision binaire, notion de taux de pulvérisation, énergie seuil de pulvérisation.
Mécanismes de croissance : description des différents modes de croissanceet exemples de structuration.
Contraintes mécaniques et adhérence de film sur une surface : définition des différents paramètres mécaniques des films, influence du mode de croissance sur la contrainte et l''adhérence, description des outils de diagnostics.
Systèmes de contrôle en temps réel : description des différentes techniques d''analyse du procédé
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Couches Minces : Généralités Concernant la Croissance des Films
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