Mécanismes et croissances des couches minces

Formation

À Paris Cédex 03

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Description

  • Typologie

    Formation

  • Lieu

    Paris cédex 03

Responsable(s) Isabelle MABILLE, Maître de Conférences à Chimie Paristech.
Publics et conditions d'accès Techniciens, ingénieurs ou chercheurs souhaitant approfondir leurs connaissances dans ce domaine.
Objectifs
Comprendre les mécanismes de croissance et les phénomènes physiques et chimiques associés à l’élaboration des films minces.

Voir aussi les formations en Traitement des matériaux

Les sites et dates disponibles

Lieu

Date de début

Paris Cédex 03 ((75) Paris)
Voir plan
292 Rue Saint-Martin, 75141

Date de début

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Le programme

Programme Présentation comparative des différentes techniques de croissance sous vide de films minces (pulvérisation, évaporation, CVD).
Rappel concernant la théorie cinétique des gaz : notion de pression, distribution de type Maxwell-Boltzmann, libre parcours-moyen, flux de particules sur une surface.
Interaction ions-surface : ralentissement des ions dans un solide, cascade de collisions, collision binaire, notion de taux de pulvérisation, énergie seuil de pulvérisation.
Notions sur les plasmas de décharge basse pression : définitions, grandeurs, interface plasma-paroi, les différents types de décharge, caractérisation d’un plasma (cours et TP).
Mécanismes de croissance : description des modes de croissance et exemples de structuration (cours et TP).
Systèmes de contrôle en temps réel : description des différentes techniques d'analyse du procédé (cours et TP).

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